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出单晶300mm（12英寸）碳化硅晶圆。该公司的300mm平台将统一用于功率电子器件的高批量碳化硅制
国际分析
2026年1月14日
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州）有限公司申请一项名为“金属钼膜的选择性沉积方法、沉积设备”的专利，公开号CN121362956
企业新闻
2026年1月24日
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。近日，一个由德国顶尖科研机构与企业组成的联盟宣布，他们正在开发一项全球首创的电化学技术``````
国际分析
2026年4月9日
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2025年11月17日
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2025年10月11日
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2025年11月27日
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2025年10月22日
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2025年9月19日
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2026年7月6日